超細二氧化硅制造方法

超細二氧化硅/納米SiO2的制備方法分為物理法和化學法兩種。

一、物理法

物理法一般指機械粉碎法。利用超級氣流粉碎機或高能球磨機將SiO2的聚集體粉碎可獲得粒徑1～5微米的超細產品。該法工藝簡單但易帶入雜質.粉料特性難以控制，制備效率低且粒徑分布較寬。

二、化學法

化學法可制得純凈且粒徑分布均勻的超細SiO2顆粒。化學法包括化學氣相沉積(CVD)法、液相法、離子交換法、沉淀法和溶膠凝膠(Sol-Gel)法等，主要的生產方法還是以四氯化硅為原料的氣相法，以硅酸鈉和無機酸為原料的沉淀法和以硅酸醋等為原料的溶膠凝膠法。

利用超細二氧化硅龐大的比表面積、表面多介孔結構和超強的吸附能力以及奇異的理化特性，將銀離子等功能離子均勻地設計到納米Si0X表面的介孔中，開發出高效、持久、耐高溫、廣譜抗菌的納米抗菌粉，可廣泛用于票據、醫療衛生、化學建材、家電制品、功能纖維、塑料制品等行業中。

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